Valmiina Ångströmin aikakauteen?
Siruarkkitehtuurien kutistuessa atomimittakaavaan jopa pienimmätkin epäpuhtaudet merkitsevät. Perinteisten materiaalien rajat tulevat vastaan samalla kun tuotantolaitokset kohtaavat kasvavaa painetta äärimmäisen puhtaustason, nopean ramp-upin, kestävyystavoitteiden ja PFAS:iin liittyvien rajoitusten vuoksi. Uuden sukupolven puolijohdevalmistuksessa (kuuman) ultrapuhtaan veden ((H)UPW) -laatu ei ole enää pelkkä prosessivaatimus. Se on strateginen tekijä tuottavuuden, luotettavuuden ja innovaatiosuunnitelmien kannalta.
SYGEF Ultra on suunniteltu juuri tätä muutosta varten. Se yhdistää korkean puhtauden suorituskyvyn, nopeamman järjestelmän ramp-upin ja tulevaisuusorientoituneen materiaalilähestymistavan yhdeksi integroiduksi putkistoratkaisuksi, joka on suunniteltu muun muassa Gate-All-Around (GAA), Complementary Field-Effect transistoreille (CFET) ja tulevaisuuden teknologioille.