SYGEF Ultra

SYGEF Ultra 是为半导体工厂(热)超纯水运输而打造的先进高纯度PEEK管路解决方案。专为支持未来芯片制造而设计。

准备好迎接“埃时代”了吗?

随着芯片结构缩小至原子级,从纳米时代走向埃时代,哪怕最小的污染也变得至关重要。传统材料已接近极限,而工厂正面临极致纯净度、更快产能爬坡、可持续目标和PFAS相关限制带来的压力。在新一代半导体制造中,(H)UPW(超纯水/热超纯水)质量已不仅仅是工艺要求,更成为良率、可靠性与创新路线图的战略性因素。

SYGEF Ultra 正是为这一变革而生。它集高纯性能、更快系统爬坡以及前瞻性材料选择于一体,为诸如环栅晶体管 (GAA)、互补场效应晶体管 (CFET) 及以后技术打造集成管路解决方案。

专为纯净、高效与未来而设计

SYGEF Ultra 专为满足先进半导体制造日益严苛的纯度需求而设计。其材料特性确保出色的析出性能和稳定的超纯水输送。同时,系统大幅缩短了冲洗时间,帮助工厂更快从安装进入运行状态。通过PEEK-HP,SYGEF Ultra 提供了一种契合最新法规要求的非氟聚合物材料,预计,安全使用寿命可达25年以上。

了解更多关于该系统

为先进(H)UPW(超纯水/热超纯水)系统而生

SYGEF Ultra 专为半导体工厂的热及常温超纯水各类处理和分配系统应用设计。适用于循环及接入环节,在这些场合下,持续纯净和系统可靠性能至关重要。该系统可无缝集成到复杂的工厂基础设施中,并超过未来更严格的国际器件与系统路线图(IRDS)要求。

创新背后

当纯度要求提升速度前所未有时,将市场需求转化为创新:我们与项目背后的专家深入交流,了解从前沿材料、极限挑战到工厂实际操作,未来方案是如何被开发出来的。

面向微电子应用的整体流体解决方案

30年行业经验

GF为半导体工厂提供针对严苛生产环境设计的水系统解决方案。凭借数十年经验,我们提供满足高纯度与高可靠性要求的系统,从水源引入直至终端使用点。

(H)UPW整体解决方案

SYGEF Ultra 是我们应用于(热)超纯水运输、循环及分配环路(半导体制造)的综合产品组合之一,能够补充我们的PVDF、PVDF-HP和PP解决方案。

废水处理

具备化学耐受性的可靠聚合物解决方案,适用于稳健分隔的、无污染的废弃物网络,以及危险介质或高纯化学品的集成。

 

 

工业工艺冷却

为微电子工艺冷却而设计的工程管路系统,用于从半导体设备中移除热量,并保持运行条件的稳定。

 

 

常见问题

哪些(H)UPW应用最适合SYGEF Ultra?

SYGEF Ultra 是高效输送(H)UPW(超纯水/热超纯水)以满足最先进工艺技术(<10nm 直至物理极限)的理想解决方案。针对新一代半导体需求而设计,面向埃时代未来,支持热及常温超纯水应用。其高纯度材料特性和化学耐受性,使其非常适用于超纯 水处理与分配链路——涵盖中央系统、循环回路、终端接入等应用场合。

SYGEF Ultra(PEEK-HP)产品组合能提供哪些内容?

GF专为下一代半导体技术的热及常温超纯水系统开发了SYGEF Ultra 产品组合,包括PEEK管道、PEEK管件及PEEK阀门(PN 16),规格涵盖:d20; d25; d32; d50; d63; d90; d110; d160。GF还开发了专属焊接技术,并配套完善的质量保证与质量控制 (QA/QC)流程,确保整个管路系统安全、可靠且稳定连接。

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SYGEF Ultra采用预制化交付方案:

  • 安装即用的预制PEEK-HP管道模块、高纯拼接段、撬块、循环系统及工艺接头
  • 内部设计应力与支撑,专为无尘室兼容、热膨胀、振动控制等高纯环境优化
  • 按时按规格交付

该高性能系统还结合了GF全系列流体解决方案元件,包括管道、管件、阀门和焊接技术,皆为超纯领域应用而设计。

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测试如何进行?

冲洗时间基于CT Associates在受控条件下进行的测试。测试装置包括一套PEEK管道和两套5米PVDF-HP拼接段,模拟了典型应用情况。所有测试均在85°C超纯水条件下完成。

如需详细测试资料,请洽询专家。

为何PEEK-HP是新一代半导体制造的理想材料?

PEEK(聚醚醚酮)因其高纯度与热稳定性,广泛应用于半导体领域,这些特性在超洁净制造环境中尤为关键。SYGEF Ultra系统采用专用高纯聚醚醚酮(PEEK),这是一种高性能聚合物,以其在严苛工业应用中的卓越表现广为人知。它兼具高温下出色的机械强度与冲击性,同时纯净度远超SEMI F57标准。特别是,PEEK在持续运行温度高达250°C时仍能保持卓越机械性能,热膨胀极低,尺寸稳定性高。对于高纯领域应用,PEEK在总有机碳(TOC)及离子杂质析出方面表现异常优异,且材料可无添加剂加工与使用。这些特性使其特别适用于半导体制造中的超纯水(UPW)与热超纯水(HUPW)管路系统,能够在高温、高压下依然保持极致纯度。

如需更多关于材料行为的信息,请浏览我们的行业规划基础。

此类材料性能的重要性,正被国际器件与系统路线图(IRDS)所强调,该文件指出,随着器件结构趋向更高级的环栅晶体管(GAA)、互补场效应管(CFET)等,污染容忍极限正日益苛刻。随着器件尺寸逐步缩小到埃级,杂质控制要求趋向亚十亿分之一(ppb)甚至万亿分之一(ppt)级别。¹

1 IRDS (2023) International Roadmap for Devices and Systems: 2023 Edition. IEEE. 链接:https://irds.ieee.org (访问时间:2026年5月5日)。

什么是埃时代?

埃时代是半导体制造步入全新阶段的标志,此时的芯片关键特征尺寸已从纳米级进入以埃(Å)为单位。此尺度下,晶体管尺寸逼近单个原子,代表极致微型化的物理极限。随着摩尔定律推进,特征尺寸已从微米级逐步降至纳米级——如今正迈入埃级时代。

这一变革对半导体生产中的超纯水要求提出了直接挑战。随着器件结构变小,纯度标准更为严苛,系统复杂性也同步提升,以确保近乎原子级别的污染控制。

新一代SYGEF Ultra 系统正是为满足这些不断演进的需求而设计,使先进半导体制造商能够跟上诸如AI驱动性能需求、制程节点缩小及更高可持续目标等产业发展步伐。

“埃时代”一词由Intel于2021年首次提出,作为其半导体制程节点命名更新的组成部分,标志着行业从纳米级技术向埃级迈进(如 Intel 20A、18A),详见 Intel 于Intel Accelerated 活动中的专题介绍。2

2 Intel, “Intel Accelerated: Process and Packaging Innovations”, 2021年7月26日。

SYGEF Ultra系统如何符合全球标准?

SYGEF Ultra(PEEK-HP)系统依据国际公认可的行业实践及设计原则开发。作为创新型系统,其产品国际标准尚未完全建立。

SYGEF Ultra符合以下标准:

  • DIN
  • DVS

此外,系统设计、测试方法及性能要求均以相关标准为依据,如:

  • ISO
  • EN
  • ASTM
  • SEMI

详细信息请参阅我们的规划基础文档。

为何PEEK被认定为非PFAS材料?

经济合作与发展组织(OECD) [1]对PFAS的定义为:“含有至少一个全氟甲基或全氟亚甲基碳原子(该碳原子不结合任何H/Cl/Br/I原子)的氟化物,即除少数例外,任何含有至少一个全氟甲基基团(–CF3)或全氟亚甲基基团(–CF2–)的化学品,即为PFAS。”该OECD定义同时被最新Annex XV限制提案 [2](欧盟REACH法规(EC)第1907/2006号)引用。

SYGEF Ultra是一种采用聚醚醚酮(PEEK)制造的管路系统。其生产所用PEEK树脂不符合OECD上述PFAS定义。然而,常用的密封圈及垫圈材料,如氟橡胶(FKM)和聚四氟乙烯(PTFE),皆为含氟材料,因此不被视为无PFAS材料。因此,SYGEF Ultra 作为管路系统不视为无PFAS。

[1] OECD (2021),《Reconciling Terminology of the Universe of Per- and Polyfluoroalkyl Substances: Recommendations and Practical Guidance》,OECD风险管理系列第61号,OECD出版社,巴黎。链接:https://www.oecd.org/chemicalsafety/portal-perfluorinated-chemicals/terminology-per-and-polyfluoroalkyl-substances.pdf

[2] 欧洲化学品管理局(ECHA) (2023),《Per- and Polyfluoroalkyl Substances (PFAS) Restriction Proposal under REACH》,限制考虑中,欧洲化学品管理局,赫尔辛基。链接:https://echa.europa.eu/restrictions-under-consideration/-/substance-rev/72301/term