GFが日本の顧客イベントで新しいPFASフリー半導体配管システム「SYGEF Ultra」を発表

2025/12/19 - 13:00 (日本時間)

原子スケールの半導体製造のニーズに応えるため、GFは高純度PEEK配管システムであるSYGEF Ultraを開発しました。SYGEF Ultraは、高温および常温環境の超純水システムにおいて純度を最大化し、洗浄時間を最小限にすることで先進半導体メーカーを支援します。この革新的なシステムは、東京で開催された顧客イベントで初めてアジア市場に発表されました。

オングストロームスケールのチップは半導体技術の限界を押し広げています。しかし、これらのチップの生産を促進するために、メーカーは最先端技術を必要としています。なぜなら、たった一つの粒子でも品質に影響を与える可能性があるからです。したがって、最高レベルの純度を確保し、歩留まりを最大化できる配管材料が優先事項です。

GFは次世代半導体技術に対応する高温および常温環境の超純水システム向けにSYGEF Ultraを開発しました。このシステムは、特定の高純度ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で構成されており、高性能ポリマーであり、要求の高い産業用途において優れた性能を持つことで知られています。高温での優れた機械的強度に加え、衝撃や化学物質への耐性を兼ね備え、純度レベルはSEMI F57をはるかに上回っています。これらの特性により、現在の材料に比べて洗浄時間が大幅に短縮され、SEMI F63水質基準の遵守が加速されます。SYGEF UltraはPFASフリーでもあり、世界中でますます厳格化する法律やエンドユーザー企業の持続可能性・環境保護の目標に対応しています。

GF Industry and Infrastructure Flow Solutionsのマイクロエレクトロニクス/UPWポートフォリオマネージャー、アンドレ・ボックスハイマー氏はこのイベントについて次のようにコメントしています。「先進半導体製造が直面する最も差し迫った課題の一つは効率性です。純度の最大化とすすぎ時間の短縮により、SYGEF Ultraはオングストローム時代のニーズを満たすだけでなく、PFASフリー設計により製造業者が持続可能性の法令に先んじるのを支援しています。日本のお客様にこのシステムを紹介できたことは喜びでした。」

SYGEF Ultraは2026年に開始予定です。この高性能システムは、パイプ、継手、バルブ、溶接技術など、超純度用途向けに設計されたGFのフルラインナップのフローソリューション要素によって強化されています。オングストロームレベル向けに精製されたGFの高純度配管システム用コンポーネントは、可能な限り低い粒子レベル、TOC、陰イオンおよび陽イオンの浸出、そして滑らかな表面仕上げを保証します。

QA/QC、安全な梱包、さらにグローバルなエンジニアリングとトレーニングサポートを含む幅広い接合技術により、信頼性の高い施工と25年以上の安全な運用を実現します。

詳細については、以下までお問い合わせください:

森川 晃太郎
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