TFT/HB-LED 与存储介质

TFT/LED 技术和存储介质的制造过程包括晶片清洁,金属涂敷,模型塑造和蚀刻处理;可应用于冷却水,中和及化工分配等典型工序中。我们根据工艺要求、温度条件和化学浓度提供合适的解决方案。

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先生 Hanspeter Mueller
Microelectronics Segment Manager, Europe
Georg Fischer Piping Systems AG
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